Scientific Library of Tomsk State University

   E-catalog        

Normal view MARC view

Фазообразование, инициированное облучением интенсивным импульсным электронным пучком системы "пленка (Si) – (Ст. 3) подложка" Ю. Ф. Иванов, А. И. Потекаев, А. Д. Тересов [и др.]

Contributor(s): Потекаев, Александр Иванович, 1951- | Тересов, Антон Дмитриевич | Петрикова, Елизавета Алексеевна | Клопотов, Анатолий Анатольевич | Иванова, Ольга Викторовна физик | Шубин, Андрей Юрьевич | Иванов, Юрий Федорович, 1955-Material type: ArticleArticleSubject(s): система пленка-подложка | фазовый состав | слабоустойчивые состояния | электронные пучки | структуры | свойстваGenre/Form: статьи в журналах Online resources: Click here to access online In: Известия высших учебных заведений. Физика Т. 62, № 4. С. 102-108Abstract: Установлены физические закономерности формирования фазового состава и дефектной субструктуры находящегося в слабоустойчивом состоянии поверхностного сплава, сформированного в результате облучения интенсивным импульсным электронным пучком системы пленка (Si) – (Ст. 3) подложка. Выявлено формирование многофазного субмикро- и нанокристаллического слоя. Показано, что облучение металлов и сплавов интенсивным импульсным электронным пучком в режиме плавления поверхностного слоя и последующей высокоскоростной кристаллизации часто приводит к образованию локальных слабоустойчивых областей, в которых проявляется тенденция к образованию метастабильных наноструктурных состояний вплоть до аморфизации материала. Выявлен режим обработки, позволяющий повысить микротвердость материала примерно в 3 раза и увеличить износостойкость в 7.5 раз.
Tags from this library: No tags from this library for this title. Log in to add tags.
No physical items for this record

Библиогр.: 20 назв.

Ограниченный доступ

Установлены физические закономерности формирования фазового состава и дефектной субструктуры находящегося в слабоустойчивом состоянии поверхностного сплава, сформированного в результате облучения интенсивным импульсным электронным пучком системы пленка (Si) – (Ст. 3) подложка. Выявлено формирование многофазного субмикро- и нанокристаллического слоя. Показано, что облучение металлов и сплавов интенсивным импульсным электронным пучком в режиме плавления поверхностного слоя и последующей высокоскоростной кристаллизации часто приводит к образованию локальных слабоустойчивых областей, в которых проявляется тенденция к образованию метастабильных наноструктурных состояний вплоть до аморфизации материала. Выявлен режим обработки, позволяющий повысить микротвердость материала примерно в 3 раза и увеличить износостойкость в 7.5 раз.

There are no comments on this title.

to post a comment.
Share